32-nanometrowa technologia w 2010 roku?

32-nanometrowa technologia w 2010 roku?
27.05.2007 08:30

Firmy IBM, Samsung Electronics, Freescale Semiconductor, Infeon Technologies i Singapore's Chartered Semiconductors ogłosiły, iż wspólnie rozpoczęły pracę nad wdrożeniem 32-nanometrowej technologii.

Przedstawiciele firm zapowiadają iż zamierzają - bazując na wcześniejszych sukcesach i doświadczeniach w projektowaniu 90nm, 60nm i 45nm technologii - stworzyć 32-nanometrowe układy do roku 2010. Mają one charakteryzować się zarówno wysoką wydajnością, jak i niskim zużyciem prądu.

Kooperacja ma przynieść nowe rozwiązania zarówno w zastosowaniu materiałów, jak i struktury urządzeń. Opracowanie 32-nanometrowych półprzewodników CMOS ( Complementary Metal Oxide Semiconductor ) jest kolejnym logicznym krokiem po wprowadzeniu na rynek układów 45nm. Przedstawiciele zaangażowanych firm poinformowali, iż trwają już prace nad zestawami PDK ( Process Design Kits ), mającymi wspierać nową technologię.

Więcej informacji na ten temat znaleźć można w komunikacie prasowym IBM-a - http://www-03.ibm.com/press/us/en/pressrelease/21592.wss.

Oceń jakość naszego artykułuTwoja opinia pozwala nam tworzyć lepsze treści.
Udostępnij:
Wybrane dla Ciebie
Komentarze (0)